研究論文

2003年8月7日

Catalytic properties of H₂-reduced MoO₃ and Pt/zeolites for the isomerization of pentane, hexane, and heptane

Appl. Catal. A : General 2003
242, pp.267-274
T. Matsuda, K. Watanabe, H. Sakagami, N. Takahashi

研究論文

2003年7月7日

H₂-reduced Pt/MoO₃ as a selective catalyst for heptane isomerization

Catal. Today 2003
81, pp.31-42
T. Matsuda, H. Sakagami, N. Takahashi

研究論文

2003年6月7日

Pentane isomerization over molybdenum oxide prepared by H₂ reduction of a hydrogen molybdenum bronze

Chem. Lett. 2003
32(6), pp.556-557
T. Matsuda, Y. Asano, H. Sakagami, N. Takahashi

研究論文

2003年3月7日

Comparison of the catalytic properties of H₂-reduced Pt/MoO₃ and of Pt/zeolites for the conversions of pentane and heptane

Appl. Catal. A : General 2003
248, pp.269-278
T. Matsuda, H. Kodama, H. Sakagami, N. Takahashi

研究論文

2002年10月5日

Formation of MoOx with a large surface area by H₂ reduction of MoO₃ in the presence of Pt

Microporous and Mesoporous Materials 2002
51, pp155-164
T. Matsuda, A. Hanai, F. Uchijima, H. Sakagami, N. Takahashi

研究論文

2002年9月28日

Size Effect for Lead Zirconate Titanate Nanopowders with Pb(Zr_0.3Ti_0.7)O₃ Composition

Jpn. J. Appl. Phys. 2002
41 pp.6985-6988
T. Ohno, T.Mori, H.Suzuki, D.S.Fu, W.Wunderlich, M.Takahashi and K.Ishikawa

研究論文

2002年9月11日

Effect of the flow rate of H₂ in the reduction process on the physical and catalytic properties of H₂-reduced Pt/MoO₃

Bull. Chem. Soc. Jpn 2002
75(5), pp.1165-1171
T. Matsuda, A. Hanai, F. Uchijima, H. Sakagami, N. Takahashi

研究論文

2002年6月28日

Effect of Excess Lead on Dielectric and Ferroelectric properties of Alkoxide-Derived Lead Titanate Thin Films

Ferroelectrics 2002
271 pp.309-314
T. Ohno, H.Suzuki, J.Takahashi, S.Shimada, T.Ota, M.Takahashi and Y.Hikichi

研究論文

2002年5月28日

Microstructure Control of Silica Thin Film by Spin Coating Method

Key Eng. Mater. 2002
206-213 pp.2185-2188
T. Ohno, H.Suzuki, J.Takahashi, S.Shimada, T.Ota, M.Takahashi and Y.Hikichi

研究論文

2002年5月28日

Orientation Control of KNbO₃ Thin Film on Silicon Wafer with Chemical Solution Deposition

Key Eng. Mater. 2002
206-213 pp.1493-1496
H.Suzuki, T. Ohno, H.Miyazaki, D.S.Fu, K.Ishikawa and K.Kodaira