第28回 高柳研究奨励賞
大野智也
液相法を用いたSi基板上の圧電体薄膜の結晶歪制御技術の開発
大野智也
液相法を用いたSi基板上の圧電体薄膜の結晶歪制御技術の開発
Acta Chim. Slov. 2014
61 453-456
T. Ohno, Y. Kamai, Y. Oda, N. Sakamoto, N. Wakiya, T. Matsuda and H. Suzuki
粉体工学会誌 2014
61 pp.11-16
大野智也、増田哲大、杉浦知幸、渡邉眞次、坂元尚紀、脇谷尚樹、鈴木久男、松田剛
「ウェットプロセスによる精密薄膜コーティング技術」 2014
㈱技術情報協会 2014年8月29日 発刊
鈴木久男、大野智也
Appl. Catal. A: general 2014
470 8-14
H. Sakagami, T. Ohno, H. Itoh, Z. Li, N. Takahashi and T. Matsuda
TOCAT7 (2014 June.1-6 ) 2014
pp.39-40
T. Matsuda, K. Kawawada and T. Ohno
J. Ceram. Soc. Jpn. 2014
122 63-66
T. Ohno, H. Yanagida, H. Suzuki and T. Matsuda
Key Eng. Mater. 2014
582 185-188
N. Sakamoto, K. Ozawa, K. Murakoshi, T. Ohno, T. Kiguchi, T. Matsuda, T. Konno, N. Wakiya and H. Suzuki
Jpn. J. Appl. Phys. 2013
52 09KA07
T. Arai, Y. Goto, H. Yanagida, N. Sakamoto, T. Ohno, T, Matsuda, N. Wakiya and H. Suzuki
J. Ceram. Soc. Jpn. 2013
121 80-83
T. Ohno, T. Sugiura, S. Watanabe, H. Suzuki and T. Matsuda