プロシーディング

Stress Engineering for Piezoelectric Thin Film on a Si Wafer

The 17th Takayanagi Kenjiro Memorial Symposium (2015 Nov. 17-18) 2015
pp.43-46
T. Ohno

研究論文

Strain Engineering Effects on Electrical Properties of Lead-free Piezoelectric Thin Film on Si Wafers

Acta Chim. Slov. 2014
61 453-456
T. Ohno, Y. Kamai, Y. Oda, N. Sakamoto, N. Wakiya, T. Matsuda and H. Suzuki

研究論文

液相法により作製したペロブスカイト単相のチタン酸バリウム中空粒子のメタン水蒸気改質における触媒特性

粉体工学会誌 2014
61 pp.11-16
大野智也、増田哲大、杉浦知幸、渡邉眞次、坂元尚紀、脇谷尚樹、鈴木久男、松田剛

研究論文

Physical and catalytic properties of Pt/MoO₃ reduced at different H₂ flow rates

Appl. Catal. A: general 2014
470 8-14
H. Sakagami, T. Ohno, H. Itoh, Z. Li, N. Takahashi and T. Matsuda

プロシーディング

Formation of porous MoO_x by H₂ reduction of MoO₃ under the controlled conditions

TOCAT7 (2014 June.1-6 ) 2014
pp.39-40
T. Matsuda, K. Kawawada and T. Ohno

研究論文

Preparation of lanthanum strontium cobalt oxide electrode on a Si wafer for stress engineering of ferroelectric thin films

J. Ceram. Soc. Jpn. 2014
122 63-66
T. Ohno, H. Yanagida, H. Suzuki and T. Matsuda

研究論文

TEM study for self oriented LaNiO₃ film along [100]

Key Eng. Mater. 2014
582 185-188
N. Sakamoto, K. Ozawa, K. Murakoshi, T. Ohno, T. Kiguchi, T. Matsuda, T. Konno, N. Wakiya and H. Suzuki

解説記事

ゾルーゲル法の基礎と強誘電体薄膜への応用

「ウェットプロセスによる精密薄膜コーティング技術」 2014
㈱技術情報協会　2014年8月29日　発刊
鈴木久男、大野智也

研究論文

Effects of Oxide Seeding Layers on Electrical Properties of Chemical Solution Deposition-Derived Pb(Mg_1/3Nb_2/3)O₃-PbTiO₃ Relaxor Thin Films

Jpn. J. Appl. Phys. 2013
52 09KA07
T. Arai, Y. Goto, H. Yanagida, N. Sakamoto, T. Ohno, T, Matsuda, N. Wakiya and H. Suzuki

研究論文

Preparation of barium titanate hollow particle by two-step chemical solution deposition

J. Ceram. Soc. Jpn. 2013
121 80-83
T. Ohno, T. Sugiura, S. Watanabe, H. Suzuki and T. Matsuda