反応性スパッタ法による化合物薄膜形成プロセスの研究
金属ターゲットを酸素や窒素ガス中でスパッタする反応性スパッタ法は、化合物薄膜の作製に広く利用されています。しかし、ターゲット表面が金属状態から化合物状態に変化する臨界条件で、薄膜の組成や電気・光学特性が急激に変化します。この臨界条件を明らかにして、高品質薄膜を作製するため、化合物薄膜形成プロセスを研究しています。
エレクトロクロミック素子の研究
電気化学的な酸化還元反応によって色変化するエレクトロクロミック(EC)素子は、省エネルギー効果の高いスマートウインドウへの応用が期待されています。そこで、還元着色型WO3と参加着色型のNiOOHおよびCo3O4を組み合わせた相補型デバイス実現のため、薄膜作製条件および電解質の選択について検討しています。
- 着脱色させた水酸化物膜の例
プロトン伝導性酸化物膜材料の研究
エレクトロクロミックデバイス及び薄膜エネルギーデバイス用の固体電解質への応用をめざし、プロトン伝導性酸化物薄膜材料について研究しています。特にH2Oガスを用いた反応性スパッタ法により、水和Ta2O5及び水和ZrO2薄膜を作製し、そのプロトン伝導性をACインピーダンス法により解析するとともに、膜中水素量との関連を検討しています。
スパッタリング法による有機薄膜の研究
高撥水性薄膜材料への応用をめざし、スパッタリング法によるフルオロカーボン薄膜の作製について検討を行っています。